置)进行蒸镀，同时第四方向(圆角正方形另一直边所在位置)进行基板的投入取出动作，从而提高蒸发源5的蒸镀时间，减少蒸发材料的浪费。
[0039]此外，在蒸发源5出现蒸镀速率不稳定时，可以将其收缩至旋转基台8的中心位置；待到其速率稳定时，再运动至旋转基台8的顶点位置进行成膜，从而提高了整个真空蒸镀系统的利用率和容错率。
[0040]其中，蒸发源5的形式并不局限，可以为点源式(蒸发出口为圆状)，也可以为线源式(蒸发出口为直线状)。当蒸发源5为线源式时，在蒸发源5的下方设有转动架，转动架用于带动蒸发源5在蒸镀过程中始终垂直于基台导轨9，也就是说，蒸发源5每次经过蒸镀区域2时，都需要使直线状的蒸发出口与基台导轨9相互垂直，从而增大蒸镀范围，提高蒸镀效率。
[0041 ] 该真空蒸镀装置还包括晶振片4和挡板3，晶振片4沿蒸发源5的开口方向倾斜设置，用于检测蒸发源5的蒸镀速率；挡板3位于晶振片4与蒸发源5之间，用于阻止蒸发源5的蒸镀材料损伤晶振片4，延长使用寿命。当然，挡板3上也设有挡板开口，在晶振片4检测蒸镀速率时，该挡板开口允许蒸镀材料通过，从而提高测量精度。而且，该晶振片4也可通过支架等设备滑动安装于基台导轨9上，可与蒸发源5 —起运动。
[0042]该真空蒸镀装置还包括真空泵7，真空泵7通过抽气管道6与真空腔室I连接，用于为蒸镀过程提供真空环境。
[0043]该真空蒸镀装置还包括驱动装置10，驱动装置10用于驱动旋转基台8进行转动，驱动装置10的形式并不局限，例如；可采用电机驱动，提高自动化程度。
[0044]此外，本发明还提供一种应用上述真空蒸镀装置的蒸镀方法，包括如下步骤:
[0045]S1、将蒸发材料装载于各个蒸发源中，该蒸发材料可为同一材料，也可为不同材料。初始状态时，蒸发源均处于旋转基台的中心位置，以三个蒸发源为例说明:如图3所示，第一蒸发源、第二蒸发源和第三蒸发源均收缩于旋转基台的中心位置。
[0046]S2、将蒸发速率最先稳定的蒸发源移动至旋转基台的顶点位置，将待蒸镀的基板分别放置在各个蒸镀区域内，其中不包括该最先稳定蒸发源上方所对应的蒸镀区域；也就是说，该最先稳定蒸发源正对上方的一个蒸镀区域是不放置基板的，其余的蒸镀区域需要放置基板。而且，其余蒸镀区域均在该最先稳定蒸发源位于该蒸发区域与上一蒸发区域间隙时，投入待蒸镀的基板；
[0047]如图4所示，假设第一蒸发源为速率最先稳定的蒸发源，将第一蒸发源移动至旋转基台的顶点位置，第二蒸发源和第三蒸发源保持不动；第一蒸发源即将经过的下一蒸镀区域作为第一取放窗口，投放待蒸镀的基板，而其余蒸镀区域均在该蒸发源位于该蒸发区域与上一蒸发区域间隙时，投入待蒸镀的基板。
[0048]S3、启动旋转基台，使该最先稳定蒸发源依次经过各个蒸镀区域的下方，实现同时在不同方向上对多个待蒸镀的基板进行蒸镀作业；蒸镀完毕后各蒸镀区域将已完成蒸镀的基板取出，并放入新的待蒸镀的基板等待下一次蒸镀作业；
[0049]如图5所示，旋转基台开始旋转，带动第一蒸发源依次经过各个蒸镀区域的下方，实现同时在不同方向上对多个待蒸镀的基板进行蒸镀作业。当然，蒸镀完毕后各蒸镀区域取放窗口可将已完成蒸镀的基板取出。
[0050]S4、对于蒸发速率陆续稳定的其他蒸发源，在对应的旋转基台顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，将其移动至旋转基台上对应的顶点处，直至所有蒸发源均参与蒸镀作业为止。
[0051]如图6所示，当第二蒸发源和第三蒸发源的蒸发速率也相继稳定时，在旋转基台的顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，分别将其移动至旋转基台上对应的顶点处。具体说明为:当第二蒸发源对应的基台顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，在这段空隙时间内迅速将其移动至旋转基台上对应的顶点处；同理，当第三蒸发源对应的基台顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，在这段空隙时间内迅速将其移动至旋转基台上对应的顶点处，这样可以实现连续作业。
[0052]该蒸镀方法还包括如下步骤:
[0053]S5、在蒸镀作业过程中，若其中某一蒸发源出现速率不稳定或其他故障，则控制在该蒸发源在旋转至两个蒸镀区域的间隙时沿将其移动至旋转基台的中心处进行维修，而刚完成的基板可视情况判定为不良；待该蒸发源速率稳定并且旋转基台对应该蒸发源的顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，再运动至旋转基台的顶点进行蒸镀作业。
[0054]综上所述，本发明提供一种真空蒸镀装置，将旋转基台的形状设计为勒洛三角形，该旋转基台可带动蒸发源依次经过多个蒸镀区域的下方，使得蒸发源可同时在多个方向蒸镀作业，提高成膜的均一性以及对蒸发材料的利用率，利于推广与应用。
[0055]本发明的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本发明限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本发明的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本发明从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
【主权项】
1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括:真空腔室及在所述真空腔室内自下而上依次设置的旋转基台、蒸发源及多个蒸镀区域；所述旋转基台的形状为勒洛三角形，且其在水平面的转动轨迹为圆角正方形；所述蒸镀区域沿所述旋转基台的转动轨迹间隔设置；所述蒸发源在旋转基台的带动下依次经过所述蒸镀区域的下方。2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述真空腔室内设有基台导轨，所述基台导轨的形状为圆角正方形，且位于旋转基台的外侧；所述旋转基台的顶点分别与基台导轨滑动连接。3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，在所述旋转基台上且位于其中心与顶点之间设有蒸发源导轨，所述蒸发源沿所述蒸发源导轨方向滑动。4.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源为点源式。5.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源为线源式；在所述蒸发源的下方设有转动架，所述转动架用于带动所述蒸发源在蒸镀过程中始终垂直于基台导轨。6.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括晶振片和挡板，所述晶振片沿所述蒸发源的开口方向倾斜设置，用于检测蒸发源的蒸镀速率；所述挡板位于晶振片与蒸发源之间。7.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括真空泵，所述真空泵通过抽气管道与所述真空腔室连接。8.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括驱动装置，所述驱动装置用于驱动所述旋转基台进行转动。9.一种根据权利要求1-8中任一项所述的真空蒸镀装置的蒸镀方法，其特征在于，包括如下步骤: S1、将蒸发材料装载于各个蒸发源中，并使蒸发源均处于旋转基台的中心位置； S2、将蒸发速率最先稳定的蒸发源移动至旋转基台的顶点位置，将待蒸镀的基板分别放置在各个蒸镀区域内，其中不包括该最先稳定蒸发源上方所对应的蒸镀区域； S3、启动旋转基台，使该最先稳定蒸发源依次经过各个蒸镀区域的下方，实现同时在不同方向上对多个待蒸镀的基板进行蒸镀作业；然后将已完成蒸镀的基板取出，同时对应放入新的待蒸镀的基板； S4、对于其他速率陆续稳定的蒸发源，当对应的旋转基台顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，将这些蒸发源分别移动至旋转基台上对应的顶点处，直至所有蒸发源均参与蒸镀作业为止。10.根据权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于，还包括如下步骤:S5、在蒸镀作业过程中，若其中某一蒸发源出现速率不稳定时，则控制在该蒸发源旋转至两个蒸镀区域的间隙时将其移动至旋转基台的中心处进行维修；待该蒸发源的速率稳定并且旋转基台对应该蒸发源的顶点位于两个蒸镀区域的间隙时，再运动至旋转基台的顶点进行蒸镀作业。
【专利摘要】本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空蒸镀装置及蒸镀方法。该真空蒸镀装置包括真空腔室及在所述真空腔室内自下而上依次设置的旋转基台、蒸发源及多个蒸镀区域；所述旋转基台的形状为勒洛三角形，且其在水平面的转动轨迹为圆角正方形；所述蒸镀区域沿所述旋转基台的转动轨迹间隔设置；所述蒸发源在旋转基台的带动下依次经过所述蒸镀区域的下方，使得蒸发源可同时在多个方向进行蒸镀作业，从而提高成膜的均一性以及对蒸发材料的利用率，利于推广与应用。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN104911548
【申请号】CN201510388186
【发明人】姚固, 曾苏伟, 徐鹏
【申请人】合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年6月30日