一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及显示设备制造领域，特别设及一种真空蒸发源装置及真空蒸锻设备。
【背景技术】
[0002] 有机致电发光（OLED)显示器件的制备过程中，常采用蒸锻法进行无机层和有机 层的制备。蒸锻法是一种属于物理气相沉积的真空锻膜技术，其原理为将蒸锻的材料置于 真空蒸发源装置的相蜗内，通过对相蜗加热，使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分 子，然后凝聚到待锻膜的基板表面形成薄膜。在采用蒸锻法制备较大尺寸的OL邸显示面板 时，主要采用真空蒸发源装置静止、且玻璃基板在相蜗上方进行水平运动的方式进行蒸锻。 相蜗不同位置处的蒸锻速率主要依靠改变蒸发溫度来进行调控，此调控方式常会造成相蜗 不同位置处的蒸锻速率出现较大差异，导致基板上薄膜厚度的均匀性较差，降低了显示屏 内的电学及光学的均匀性，进而降低了显示屏的亮度及颜色均匀性，导致显示屏的显示效 果下降。
【发明内容】
[0003] 本发明提供了一种真空蒸发源装置及真空蒸锻设备，可W减小蒸发源装置不同位 置处的蒸锻速率的差异，提高基板各处蒸锻材料膜厚的均匀性，提高显示屏内电学及光学 均匀性，进而提升显示屏的显示性能。
[0004] 为实现上述目的，本发明提供如下的技术方案： 阳〇化]一种真空蒸发源装置，包括蒸锻相蜗和设置于蒸锻相蜗出口处的第一盖板和第二 盖板，第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，第二盖板上设置有 与第一过孔一一对应的第二过孔；第二盖板可相对第一盖板沿第一盖板延伸方向位置可调 地叠置于第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一 对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当第二盖板相对于第一盖板 移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节。
[0006] 上述真空蒸发源装置在蒸锻过程中，由于第一过孔与第二过孔为均匀分布，且每 一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔 和第二过孔之间的重合面积大小相同，所W蒸发源装置在不同位置处的蒸锻气体在透过第 一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过调节第一盖板和 第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积，从而调整蒸 锻相蜗内逸出的蒸锻气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸锻速率，与现有技术 中通过调整蒸发溫度控制蒸锻速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真空蒸发源装置 可W减小蒸发源不同位置处蒸锻速率的差异，提高基板各处蒸锻材料膜厚的均匀性，从而 提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
[0007] 优选地，第一盖板上设置的第一过孔阵列分布，且第二盖板上设置的第二过孔阵 列分布。
[0008] 优选地，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔中，第一过孔和第二过孔的大小 相同。
[0009] 优选地，第一盖板中，每相邻的两个第一过孔之间的间距为lO-lOOmm。
[0010] 优选地，相蜗为线源相蜗或面源相蜗。
[0011] 优选地，第一盖板设置的第一过孔为圆孔、楠圆孔或者多边形孔，且第二盖板设置 的第二过孔为圆孔、楠圆孔或者多边形孔。
[0012] 优选地，第一过孔和第二过孔的形状相同。
[0013] 优选地，当第一过孔和第二过孔为圆孔时，第一过孔和第二过孔的直径为 100Um-5mm〇
[0014] 本发明还提供了一种真空蒸锻设备，包括上述的真空蒸发源装置。
[0015] 因该真空蒸锻设备中的真空蒸发源装置在蒸锻过程中，由于第一过孔与第二过孔 为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互 对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，所W蒸发源装置在不同位置处的蒸 锻气体在透过第一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过 调节第一盖板和第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面 积，从而调整蒸锻相蜗内逸出的蒸锻气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸锻速 率，与现有技术中通过调整蒸发溫度控制蒸锻速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真 空蒸发源装置可W有效减小蒸发源不同位置处蒸锻速率的差异，提高基板各处蒸锻材料膜 厚的均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
【附图说明】
[0016] 图1为本发明【具体实施方式】提供的一种真空蒸发源装置的结构示意图；
[0017] 图2为本发明【具体实施方式】提供的一种真空蒸发源装置的蒸锻速率调节原理示 意图。
[0018] 附图标记：
[0019] 10,蒸锻相蜗；20,第一盖板；21，第一过孔；
[0020] 30，第二盖板；31，第二过孔。
【具体实施方式】
[0021] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本 发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实 施例，都属于本发明保护的范围。
[0022] 如图1和图2所示，本发明【具体实施方式】提供了 一种真空蒸发源装置，包括蒸锻相 蜗10和设置于蒸锻相蜗10出口处的第一盖板20和第二盖板30,第一盖板20上设置有多 个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔21，第二盖板30上设置有与第一过孔21 -一对 应的第二过孔31 ;第二盖板30可相对第一盖板20沿第一盖板20延伸方向位置可调地叠 置于第一盖板20上，每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小与 另一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小相同，当第二盖板30相 对于第一盖板20移动时实现对每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合 面积的调节。
[0023] 上述真空蒸发源装置在蒸锻过程中，由于第一过孔21与第二过孔31为均匀分布， 且每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小与另一对相互对应的 第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小相同，所W蒸发源装置在不同位置处的蒸 锻气