体在透过第一过孔21和第二过孔31之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并 可通过调节第一盖板20和第二盖板30的相对位置，改变相互对应的第一过孔21和第二过 孔31之间的重合面积，从而调整蒸锻相蜗10内逸出的蒸锻气体的逸出速度，进而控制真空 蒸发源装置的蒸锻速率，与现有技术中通过调整蒸发溫度控制蒸锻速率的方法相比，本实 施例提供的真空蒸发源装置的蒸锻速率控制精度更高。因此该真空蒸发源装置可W减小蒸 发源不同位置处蒸锻速率的差异，提高基板各处蒸锻材料膜厚的均匀性，从而提高显示屏 内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
[0024] 进一步地，为提高蒸发源装置在不同位置处的蒸锻气体在透过第一过孔21和第 二过孔31之间的重合处逸出时的气体分布均匀性，如图1所示的一种优选方式中，第一盖 板20上设置的第一过孔21阵列分布，且第二盖板30上设置的第二过孔31阵列分布。
[00巧]进一步地，为便于调整第一过孔和第二过孔之间的重合面积，如图1所示的一种 优选方式中，每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31中，第一过孔21和第二过孔31 的大小相同。
[00%] 进一步地，根据蒸发源装置的大小需求，如图1所示的一种优选方式中，第一盖板 中，每相邻的两个第一过孔之间的间距h为lO-lOOmm，具体地，可为10mm、20mm、40mm、60mm、 80mm、100mm。
[0027] 一种优选方式中，为适应制备较大尺寸的显示面板的生产需求，相蜗为线源相蜗 或面源相蜗。
[0028] 在实现上述功能的同时，根据实际生产需求，第一盖板设置的第一过孔为圆孔、楠 圆孔或者多边形孔，且第二盖板设置的第二过孔为圆孔、楠圆孔或者多边形孔。
[0029] 进一步地，为便于第一盖板和第二盖板的加工，一种优选方式中，第一过孔和第二 过孔的形状相同。
[0030] 进一步地，根据实际生产过程中所需蒸锻速率大小的需求，如图1所示的一种优 选方式中，当第一过孔和第二过孔为圆孔时，第一过孔的直径01和第二过孔的直径02为 100Ji 具体地，可为 100ym、500ym、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm。
[0031] 此外，本发明【具体实施方式】还提供了一种真空蒸锻设备，包括上述的真空蒸发源 装置。
[0032] 因该真空蒸锻设备中的真空蒸发源装置在蒸锻过程中，由于第一过孔与第二过孔 为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互 对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，所W蒸发源装置在不同位置处的蒸 锻气体在透过第一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过 调节第一盖板和第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面 积，从而调整蒸锻相蜗内逸出的蒸锻气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸锻速 率，与现有技术中通过调整蒸发溫度控制蒸锻速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真 空蒸发源装置可W减小蒸发源不同位置处蒸锻速率的差异，提高基板各处蒸锻材料膜厚的 均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，提升显示屏的整体显示性能。
[0033] 显然，本领域的技术人员可W对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发 明的精神和范围。运样，倘若本发明的运些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术 的范围之内，则本发明也意图包含运些改动和变型在内。
【主权项】
1. 一种真空蒸发源装置，其特征在于，包括蒸镀坩埚和设置于所述蒸镀坩埚出口处的 第一盖板和第二盖板，所述第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过 孔，所述第二盖板上设置有与所述第一过孔一一对应的第二过孔；所述第二盖板可相对第 一盖板沿所述第一盖板延伸方向位置可调地叠置于所述第一盖板上，每一对相互对应的第 一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的 重合面积大小相同，当所述第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一 过孔和第二过孔之间的重合面积的调节。2. 根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板上设置的第一 过孔阵列分布，且所述第二盖板上设置的第二过孔阵列分布。3. 根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，每一对相互对应的第一过孔 和第二过孔中，第一过孔和第二过孔的大小相同。4. 根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板中，每相邻的两 个所述第一过孔之间的间距为l〇-l〇〇mm。5. 根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述坩埚为线源坩埚或面源 坩埚。6. 根据权利要求1-5任一项所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板设置 的第一过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔，且所述第二盖板设置的第二过孔为圆孔、椭圆孔 或者多边形孔。7. 根据权利要求6所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一过孔和所述第二过 孔的形状相同。8. 根据权利要求7所述的真空蒸发源装置，其特征在于，当所述第一过孔和所述第二 过孔为圆孔时，所述第一过孔和第二过孔的直径为100 ym-5mm。9. 一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的真空蒸发源装 置。
【专利摘要】本发明涉及显示设备制造领域，公开了一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备，包括蒸镀坩埚和设置于蒸镀坩埚出口处的第一盖板和第二盖板，第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，第二盖板上设置有与第一过孔一一对应的第二过孔；第二盖板可相对第一盖板沿第一盖板延伸方向位置可调地叠置于第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节，可以减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，提升显示屏的整体显示性能。
【IPC分类】C23C14/54, C23C14/24
【公开号】CN105154831
【申请号】CN201510563771
【发明人】上官荣刚, 贾文斌, 王欣欣, 高昕伟
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年9月7日